分流プロセスおよびその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：川口義雄 , 小野誠 , 渡邉千尋 , 金山賢教 , 大崎勝真 , 坪倉道明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-583615
特許番号：特許第4566405号
出願日： 1999年11月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】燃焼排ガスであるプロセスガスからガス成分を回収する回収プラントであって、プロセスガスからガス成分を吸収する、リーン溶剤およびセミリーン溶剤を用いることにより、リッチ溶剤、セミリッチ溶剤、およびリーンプロセスガスを生成する吸収器を具備し、リーン溶剤およびセミリーン溶剤が同一の再生器によって生成され、再生器が吸収器に結合され、再生器が、リッチ溶剤の少なくとも一部を受け、リッチ溶剤からガス成分を抽出し、それによってリーン溶剤およびセミリーン溶剤を再生し、吸収器は、圧力が20psia(138kPa(絶対圧力))未満で二酸化炭素含有量が5モル%よりも高い燃焼排ガスを供給する燃焼排ガス源に結合されており、回収プラントが、さらに、吸収器に結合され、セミリッチ溶剤の少なくとも一部をセミリーン溶剤の少なくとも一部と組み合わせて混合溶剤を形成する溶剤流量制御要素と、吸収器に結合され、混合溶剤を冷却する冷却器と、冷却された混合溶剤を吸収器内に供給する連結要素とを具備する回収プラント。

IPC (3件)：

B01D 53/14 ( 200 6.01) , B01D 53/62 ( 200 6.01) , B01D 53/34 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B01D 53/14 C , B01D 53/34 135 Z , B01D 53/34 ZAB

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-111414
特開平2-111414
特開平2-111414

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