特許
J-GLOBAL ID:201103048637526380

ガス充填方法、ガス充填システム、ガスステーション及び移動体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-100076
公開番号(公開出願番号):特開2011-231799
出願日: 2010年04月23日
公開日(公表日): 2011年11月17日
要約:
【課題】タンクのライナへの負荷を低減することができるガス充填方法、ガス充填システム、ガスステーション及び移動体を提供することを課題とする。【解決手段】タンク30内の圧力及び温度に基づいて、充填開始前におけるライナ53と補強層55との間の隙間量62を算出し、算出した隙間量62に基づいて、充填によりライナ53に許容以上の負荷がかかるか否かを予測し、許容以上の負荷がかかる旨が予測された場合、そうではない場合よりも、充填に際してガスの充填流量を制限する。【選択図】図11
請求項(抜粋):
ライナ及びその外周面に形成された補強層を備えるタンクにガスを充填するガス充填方法において、 前記タンク内の圧力及び温度に基づいて、充填開始前における前記ライナと前記補強層との間の隙間量を算出する算出ステップと、 算出した隙間量に基づいて、充填により前記ライナに許容以上の負荷がかかるか否かを予測する予測ステップと、 前記許容以上の負荷がかかる旨が予測された場合、そうではない場合よりも、充填に際してガスの充填流量を制限する流量制限ステップと、を備えた、ガス充填方法。
IPC (4件):
F17C 5/06 ,  F17C 13/02 ,  C01B 3/00 ,  B60K 15/03
FI (4件):
F17C5/06 ,  F17C13/02 301Z ,  C01B3/00 Z ,  B60K15/08
Fターム (17件):
3D038CA17 ,  3D038CB01 ,  3D038CC18 ,  3E172AA02 ,  3E172AA05 ,  3E172AB01 ,  3E172AB04 ,  3E172CA11 ,  3E172DA35 ,  3E172EA02 ,  3E172EA14 ,  3E172EA22 ,  3E172EA23 ,  3E172EA30 ,  3E172EA35 ,  3E172EA41 ,  4G140AB01
引用特許:
審査官引用 (2件)

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