特許
J-GLOBAL ID：201103048680466501
液晶表示装置およびその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-197741
公開番号（公開出願番号）：特開2000-231123
特許番号：特許第3267271号
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明絶縁性基板上に、スイッチング素子と、このスイッチング素子を保護するパッシベーション膜と、各色カラーフィルターと、この各色カラーフィルターの間に、少なくとも前記スイッチング素子の上部を覆って設けられたブラックマトリクスと、前記各色カラーフィルターと前記ブラックマトリクスの上に設けられたオーバーコート層と、このオーバーコート層の上に設けられた画素電極とを備えた液晶表示装置の製造方法において、前記透明絶縁性基板上に、前記画素電極との接続のための引き出し電極を有する前記スイッチング素子を形成する工程と、前記スイッチング素子を形成した透明絶縁性基板上に、前記各色カラーフィルターを、少なくとも後の工程で形成するコンタクトスルーホール形成箇所を含む領域を除いて所定の形状になるように、露光と湿式現像を用いたパターニングにより形成する各色カラーフィルター形成工程と、各色カラーフィルターを形成した透明絶縁性基板上に、前記ブラックマトリクスを、少なくとも後の工程で形成するコンタクトスルーホール形成箇所を含む領域を除き、かつ前記各色カラーフィルターと接する箇所においては前記カラーフィルターの端にブラックマトリクスの端が重なるように所定の形状になるように、露光と湿式現像を用いたパターニングにより形成するブラックマトリクス形成工程と、ブラックマトリクスを形成した透明絶縁性基板上に、前記オーバーコート層を、コンタクトスルーホール形成箇所に開口を有するパターン状に形成する工程と、形成したオーバーコート層を用いるか、またはオーバーコート層上にさらに形成したレジストを用いて、前記パッシベーション膜をエッチングし、前記オーバーコート層および前記パッシベーション膜を貫通し前記引き出し電極に達するコンタクトスルーホールを形成する工程と、パターニングしたオーバーコート層および前記コンタクトスルーホールから露出している前記引き出し電極の表面に透明導電膜を形成し、所定の形状にパターニングして画素電極を形成する工程とを有する液晶表示装置の製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/1368
, G02F 1/1333 505
, G02F 1/1335 505
G02F 1/1333 505
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/136 500
出願人引用 (1件)
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液晶表示素子
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-194510
出願人：東芝電子エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
審査官引用 (1件)
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液晶表示素子
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-194510
出願人：東芝電子エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
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