特許

J-GLOBAL ID：201103048829104420

プラズマ処理装置

発明者： 林 久貴 ,  冨岡 和広 ,  酒井 伊都子 ,  大岩 徳久 ,  小島 章弘
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-195165
公開番号（公開出願番号）：特開2002-016045
特許番号：特許第3792999号
出願日： 2000年06月28日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被処理体を保持する保持電極と、 前記保持電極に対向する対向電極と、 前記保持電極に、前記被処理体を静電的に保持させるための直流電圧を印加する直流電源と、 前記保持電極に、対向電極との間にプラズマを発生させるための高周波を印加する高周波電源と、 前記保持電極と直流電源との間に挿入され、前記高周波の波長の(2n+1)/4の長さ(nは0または正の整数)を有する高周波トラップと を備えるプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  C23C 16/509 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/302 101 B ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M

引用特許：

出願人引用 (2件)

• プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-261877   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
• 特公平1-019254
  

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-261877   出願人：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
• 特公平1-019254
  
• 特公平1-019254