特許

J-GLOBAL ID：201103049068218058

半導体材料中の金属フィーチャの電気分解を減少させる装置及び方法

発明者： ダニエル・シー・エーデルステイン ,  ウィルマ・ジェイ・ホーカンス ,  スチーブン・イー・ルース ,  ナフタリー・ルスティグ ,  キース・アール・ポープ ,  ピーター・ディー・ローパー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
代理人 (1件)： 山本 仁朗 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-023639
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274114
特許番号：特許第3083809号
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】半導体材料のバンド・ギャップ・エネルギー以上のエネルギーを有する光への半導体材料の曝露をなくすための密閉機構を含み、該密閉機構内に、前記バンド・ギャップ・エネルギーより低いエネルギーを有する光が導入されることを特徴とする、前記半導体材料中の金属フィーチャの電気分解を減少させる装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304 647

FI (4件)：

H01L 21/304 621 D ,  H01L 21/304 622 C ,  H01L 21/304 644 Z ,  H01L 21/304 647 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-232280   出願人：大見忠弘
• 電解活性水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-056108   出願人：日本電気株式会社
• 特開平2-257631
  
• 特開平1-164039