特許
J-GLOBAL ID:201103049248953163
フォトレジスト単量体とその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
荒船 博司
, 荒船 良男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-307544
公開番号(公開出願番号):特開2000-159717
特許番号:特許第3794883号
出願日: 1999年10月28日
公開日(公表日): 2000年06月13日
請求項(抜粋):
【請求項1】下記式(1)で示されるフォトレジスト単量体。
前記式で、
XはCH2、CH2CH2、またはOであり、
R1は水素または-R'OHであり、
R2は-OH、炭素数C1〜C5の直鎖または枝分れ状のアルコキシ、-OR''OH、または-(O-R''')n-OHであるが、
このときR'及びR''は、それぞれ炭素数C1〜C5の直鎖または枝分れ状のアルキレンまたは炭素数C3〜C8のシクロアルキレンであり、R'''は炭素数C2〜C5のアルキレンで、nは2〜5のいずれかの整数である。
IPC (6件):
C07C 43/317 ( 200 6.01)
, C07C 41/16 ( 200 6.01)
, C07C 43/315 ( 200 6.01)
, C08F 32/04 ( 200 6.01)
, C08F 34/02 ( 200 6.01)
, G03F 7/027 ( 200 6.01)
FI (6件):
C07C 43/317
, C07C 41/16
, C07C 43/315
, C08F 32/04
, C08F 34/02
, G03F 7/027
引用特許:
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