ホスゲンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三原秀子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014140
公開番号（公開出願番号）：特開2000-211911
特許番号：特許第4290793号
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一酸化炭素と塩素を反応させてホスゲンを製造する方法において、下記(i)〜(iv)の条件を満足することを特徴とするホスゲンの製造方法。 (i)一酸化炭素と塩素とのモル比(CO/Cl2)を1.020〜1.150の範囲とすること、 (ii)活性炭の総比表面積の異なる多段反応槽を用いること、 (iii)活性炭の総比表面積は、活性炭とビーズやラシヒリングとの混合比を変える方法で調整すること、 (iv)前段の反応槽の活性炭の総比表面積は、最終反応槽の活性炭の総比表面積より小さくすること、

IPC (1件)：