特許

J-GLOBAL ID：201103050811334325

遷移金属配位錯化合物の分離法

発明者： 上野 航 ,  藤井 尊 ,  中村 健一
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083919
公開番号（公開出願番号）：特開2000-271462
特許番号：特許第4380832号
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一般式(I) (PhO)3-n- P-[O-Ph-SO3 - (NR1R2R3R4) + ] n (I) 〔式中、Phはフェニル又はフェニレン基を示し、n は1〜3の整数で、R1、R2、R3及びR4は互いに同じか異なり、水素原子、C1〜C30 -アルキル基、C6〜C10 -アリール基又はC6〜C10 -シクロアルキル基を示す〕で表されるスルホン化アリールホスファイトのアルキル及び/又はアリールアミン塩からなる配位子及び/又は該配位子と遷移金属とを含む配位錯化合物を、シリコーンゴム膜での加圧濾過で、これら化合物の有機化合物混合溶液から分離する方法。

IPC (7件)：

B01D 71/70 ( 200 6.01) ,  B01J 38/00 ( 200 6.01) ,  C07C 45/50 ( 200 6.01) ,  C07C 45/79 ( 200 6.01) ,  C07C 47/38 ( 200 6.01) ,  C07F 9/145 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (7件)：

B01D 71/70 ,  B01J 38/00 301 R ,  C07C 45/50 ,  C07C 45/79 ,  C07C 47/38 ,  C07F 9/145 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 膜分離方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-533268   出願人：ユニオンカーバイドケミカルズアンドプラスティックステクノロジーコーポレイション
• 加水分解に対して安定な有機ホスフアイトの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平2-402868   出願人：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト