特許
J-GLOBAL ID：201103050844016345

光学素子の製造方法

発明者：
大窪 克之

大窪 克之 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (3件)： 高野 明近 ,  安田 啓之 ,  岩野 進
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-326280
公開番号（公開出願番号）：特開2002-127157
特許番号：特許第4155704号
出願日： 2000年10月26日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 紫外光、電子などの電離放射線により硬化する樹脂(光硬化樹脂と略称)を光学面形状を反転転写するための型転写面上に塗布し、しかる後に前記光硬化樹脂の硬化処理を行って光学素子を作製する光学素子の製造方法において、前記型転写面上に以下のサブ工程1〜3よりなる処理を施して光学素子を作製することを特徴とする光学素子の製造方法; サブ工程1;パーフルオロアルキル主鎖を有し、末端に加水分解可能な官能基としてアルキコキシシラン基や4級アンモニウム塩が結合した、フッ素を含みかつ薄膜化可能な材料を均一溶解可能なハイドロフルオロエーテル又はハイドロフルオロアルコールで希釈した希釈溶液を型転写面上に塗布する、 サブ工程2;型転写面の温度を上昇させて前記溶媒を揮発させ、前記型転写面上にフッ素を含む材料の薄膜を形成する、 サブ工程3;前記薄膜が形成された型転写面に電離放射線を照射し、フッ素を含む材料の薄膜を前記型転写面上に固定する。
IPC (6件)：
B29C 39/02 ( 200 6.01) ,  B29C 33/58 ( 200 6.01) ,  B29C 39/26 ( 200 6.01) ,  B29C 41/02 ( 200 6.01) ,  G02B 3/00 ( 200 6.01) ,  B29L 11/00 ( 200 6.01)
FI (6件)：
B29C 39/02 ,  B29C 33/58 ,  B29C 39/26 ,  B29C 41/02 ,  G02B 3/00 Z ,  B29L 11:00
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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