特許
J-GLOBAL ID:201103051354212916
地層処分施設とその施工法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
酒井 宏明
, 柳田 良徳
, 村田 幸雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-379817
公開番号(公開出願番号):特開2002-181995
特許番号:特許第4253783号
出願日: 2000年12月14日
公開日(公表日): 2002年06月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】掘削した処分坑道に処分孔を形成し、該処分孔に封入される緩衝材中に廃棄体を埋設して定置する地層処分施設であって、処分孔に封入する緩衝材を有底鋼管に充填させて配置することを特徴とする地層処分施設。
IPC (3件):
G21F 9/36 ( 200 6.01)
, E02D 29/045 ( 200 6.01)
, E21D 13/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
G21F 9/36 541 M
, G21F 9/36 541 E
, E02D 29/04 A
, E21D 13/00
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
地中構造物の構築方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-262154
出願人:三谷セキサン株式会社
引用文献:
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