特許
J-GLOBAL ID：201103051890147949
UF膜モジュールの洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-198407
公開番号（公開出願番号）：特開2011-045856
出願日： 2009年08月28日
公開日（公表日）： 2011年03月10日
要約：
【課題】UF膜モジュールを超純水製造装置に組み込む前の洗浄工程における、洗浄終了時の空気吸い込みに起因する汚染を防止して、高清浄なUF膜モジュールを供給する。【解決手段】超純水製造装置に使用されるUF膜モジュールを洗浄する方法において、最終洗浄水として超純水を使用して洗浄した後に、モジュール内の超純水を清浄ガスによって押し出して排出させるUF膜モジュールの洗浄方法。UF膜モジュールの洗浄終了時に、UF膜モジュール内の超純水を清浄なガスで押し出して排出しておくことにより、UF膜モジュール内の超純水の流出に伴う雰囲気中の空気のUF膜モジュール内への流入が防止され、この空気による汚染の問題を解決することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
超純水製造装置に使用されるUF膜モジュールを洗浄する方法において、最終洗浄水として超純水を使用して洗浄した後に、モジュール内の超純水を清浄なガスによって押し出して排出させることを特徴とするUF膜モジュールの洗浄方法。
IPC (3件)：
B01D 65/02
, C02F 1/44
, B01D 61/14
B01D65/02
, C02F1/44 C
, C02F1/44 J
, B01D61/14
, B01D65/02 520
4D006GA06
, 4D006HA02
, 4D006HA03
, 4D006KC02
, 4D006KC03
, 4D006KC14
, 4D006KC16
, 4D006KC20
, 4D006KD12
, 4D006KD30
, 4D006MA01
, 4D006MC62X
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PC02
