特許
J-GLOBAL ID:201103051992154125
光学物品の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-185495
公開番号(公開出願番号):特開2011-039218
出願日: 2009年08月10日
公開日(公表日): 2011年02月24日
要約:
【課題】帯電防止性の良好な層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。【解決手段】光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第1の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。チタン-ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。【選択図】図7
請求項(抜粋):
光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成することと、
チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、前記第1の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化することとを有する、光学物品の製造方法。
IPC (5件):
G02B 1/10
, G02B 1/11
, G02C 7/02
, G02C 7/00
, C23C 14/08
FI (5件):
G02B1/10 Z
, G02B1/10 A
, G02C7/02
, G02C7/00
, C23C14/08 N
Fターム (25件):
2H006BA01
, 2H006BA03
, 2H006BA04
, 2K009AA08
, 2K009AA09
, 2K009AA15
, 2K009BB11
, 2K009CC03
, 2K009DD03
, 2K009DD07
, 2K009EE03
, 2K009EE05
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA01
, 4K029BA17
, 4K029BA43
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BC09
, 4K029CA02
, 4K029CA09
, 4K029DB21
引用特許:
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