特許
J-GLOBAL ID：201103052569081495
有機EL用マスククリーニング方法、有機EL用マスククリーニング装置、有機ELディスプレイの製造装置および有機ELディスプレイ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
影井 俊次
, 影井 慶大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-222762
公開番号（公開出願番号）：特開2011-071038
出願日： 2009年09月28日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：
【課題】レーザ光を用いて有機EL用マスクに付着している有機材料を除去するときに、有機EL用マスクに復元不能なダメージを与えることなく、高い洗浄度を得ることを目的とする。【解決手段】有機材料51が付着した有機EL用マスク2の表面にレーザ光を走査して有機材料51を除去する有機EL用マスククリーニング方法であって、有機材料51の層を透過させてレーザ光Lを有機EL用マスク2に照射するときに、有機材料51を固形状態に維持し、且つ有機EL用マスク2が照射後に変形しないレーザ光Lを照射している。また、レーザ光Lを照射することにより、有機材料51と有機EL用マスク2とに温度差による熱膨張差を持たせることにより層間に剥離力を作用させて有機材料51の除去を行っている。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
有機材料が付着した有機EL用マスクの表面にレーザ光を走査して前記有機材料を除去する有機EL用マスククリーニング方法であって、
前記有機材料を透過させて前記レーザ光を前記有機EL用マスクに照射するときに、前記有機材料を固形状態に維持し、且つ前記有機EL用マスクが照射後に変形しないレーザ光を照射すること
を特徴とする有機EL用マスククリーニング方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, C23C 14/04
H05B33/10
, H05B33/14 A
, C23C14/04 A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC45
, 3K107FF13
, 3K107GG04
, 3K107GG14
, 3K107GG28
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029HA01
, 4K029HA02
