特許
J-GLOBAL ID：201103052883052548
変位測定装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西村 教光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-292588
公開番号（公開出願番号）：特開2001-116511
特許番号：特許第3568841号
出願日： 1999年10月14日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】測定対象に投光部から測定光を照射させ、測定対象からの反射光を受光部の受光素子で検出して測定対象の凹凸を測定する方法であり、前記測定対象の凹部と凸部の光の反射率が大きく異なり、かつ、これら凹部と凸部の幅が測定光のビーム径程度である測定対象を測定する変位測定方法において、前記測定対象からの反射光が測定光の光束中心の正反射方向から外れる位置に前記受光部を配置させることにより、該受光部で反射光の散乱成分を検出させることを特徴とする変位測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/00 B
, G01C 3/06 A
