イオンビームを走査しかつ集束するための方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：堀明▲ひこ▼
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-555271
特許番号：特許第4305801号
出願日： 1999年05月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】荷電粒子ビームを制御する装置であって, 荷電粒子ビームを発生するための荷電粒子ビームソースと, 荷電粒子ビームの両側に配置された走査電極と, 荷電粒子ビームに隣接し,前記走査電極の下流に配置され,後走査電圧を有する後走査電極と, 荷電粒子ビームを第一の方向に走査するための走査電圧を,前記走査電極に適用する走査電圧発生器と,を含み, 該走査電圧発生器は負のDC電圧オフセットを有する走査電圧を適用するものであり,前記負のDC電圧オフセットは前記後走査電圧よりもさらに負となり,前記走査電極にそれぞれ等しい負のDC電圧オフセットが適用され,前記荷電粒子ビームは前記第一の方向に対して垂直な第二の方向に集束される,ところの装置。

IPC (2件)：