特許
J-GLOBAL ID：201103053255332821
4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-016520
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279128
特許番号：特許第4238944号
出願日： 1999年01月26日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式〔1〕
(式中、Rはハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、ヒドロキシカルボニル基又は炭素原子数1〜5のアルコキシ基を表し、nは0又は1〜5のいずれかの整数を表し、2個以上のRは互いに同一又は異なっていてもよい。)で表される4,6-ビス(置換)フェニルアゾレゾルシノールを金属触媒及び溶媒の存在下に水素還元し、4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩を得る還元方法において、金属触媒として銅及び周期律表第8族元素の中から選ばれる少なくとも一種の金属を用い、溶媒として脂肪族ニトリル化合物、炭素数3〜5の脂肪族アルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル及びジオキサンから選ばれる少なくとも一種の有機溶媒を使用し、更に活性炭、セライト、活性白土及びセルロースから選ばれる少なくとも一種の濾過助剤の存在下に還元を行うことを特徴とする、4,6-ジアミノレゾルシノール又はその塩の製造方法。
IPC (6件)：
C07C 213/02 ( 200 6.01)
, C07C 215/80 ( 200 6.01)
, B01J 23/42 ( 200 6.01)
, B01J 23/44 ( 200 6.01)
, B01J 23/656 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 213/02
, C07C 215/80
, B01J 23/42 X
, B01J 23/44 X
, B01J 23/64 104 X
, C07B 61/00 300
