特許
J-GLOBAL ID：201103053415620551

ポルフィリン・フラーレン膜の電荷移動錯体形成による近赤外発光材料

発明者：
今堀 博

今堀 博 について

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ニコライ・ヴラディミロヴィチ・タカチェンコ

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ヘルゲ・レメティネン

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出願人/特許権者：
独立行政法人科学技術振興機構

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代理人 (1件)： 宮本 晴視
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-277480
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088354
特許番号：特許第3967071号
出願日： 2000年09月13日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式Aで表されメタル配位又はメタルフリーのポルフィリン類と一般式Bで表されるフラーレン類の混合物またはポルフィリン環とフラーレン基を同一分子内に有する一般式Cで表される化合物類の溶液から形成されポルフィリン部分とフラーレン部分とが密に隣接した電荷移動状態を形成している二分子固体フイルムからなる近赤外発光材料。 (一般式Aにおいて、Mは2原子のH又はメタル、Ar1〜Ar4は、未置換またはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、アミド基からなる群から独立に選択される置換基を有するフェニル基、であり、ポルフィリン環の他の水素はアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、アミノ基、 ハロゲン基、シアノ基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホルミル基、スルホン酸基からなる群から独立に選択される基によって置換されていても良い。) 〔一般式Bは、(a)〜(c)から選択され、それぞれのR1〜R4は、水素またはアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ニトロ基、アミノ基、 ハロゲン基、シアノ基、カルボキシル基、エステル基、アミド基、ホルミル基、スルホン酸基からなる群から独立に選択される基を表す。nは置換度を表し、0から6置換まである。フラーレン部分は、C60、C70、C76、C78、C80、C82、C84、C86、C88、C90である。 〔一般式CにおいてArは一般式AにおけるAr1と同じ意味であり、Xは-NH-CO-、-CO-NH-、-Ph-、-O-、-CO-O-から選択される基を表す。)である。
IPC (2件)：
C09K 11/06 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C09K 11/06 640 ,  C09K 11/06 610 ,  C09K 11/06 620 ,  H05B 33/14 B
引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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