特許
J-GLOBAL ID：201103053478907702
液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置および流体装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
森 幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-015204
公開番号（公開出願番号）：特開2011-153894
出願日： 2010年01月27日
公開日（公表日）： 2011年08月11日
要約：
【課題】液体金属ターゲットの液体金属が流される容器内の液体金属中に所望の大きさのマイクロバブルを所望の濃度でしかも効率的に発生させることができ、パルス陽子ビームの入射により容器内の液体金属中に発生する圧力波の大幅な低減を図ることができる液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置を提供する。【解決手段】液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置33は、液体金属が流される管路にこの管路を閉塞するように設けられる閉塞部材31と、この閉塞部材31の複数箇所にこの閉塞部材31を貫通して設けられた複数の旋回流型マイクロバブル発生器32とを有する。旋回流型マイクロバブル発生器32としては、旋回流発生用翼型ノズルと、この旋回流発生用翼型ノズルと同軸に結合された、縮流部と渦崩壊部とを有する渦崩壊用ノズルとを有するものを用いる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
液体金属が流される管路に上記管路を閉塞するように設けられる閉塞部材と、
上記閉塞部材の複数箇所に上記閉塞部材を貫通して設けられた複数の旋回流型マイクロバブル発生器とを有する液体金属ターゲット用旋回流型マイクロバブル発生装置。
IPC (4件)：
G21K 5/08
, B01F 5/00
, B01F 3/04
, H05H 6/00
G21K5/08 N
, B01F5/00 G
, B01F3/04 C
, H05H6/00
2G085BA17
, 4G035AB18
, 4G035AC44
, 4G035AE13
