特許
J-GLOBAL ID：201103053805332638
被覆物の形成方法及び被覆物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160074
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335950
特許番号：特許第3868187号
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材上にポリシラザン又はその変成物を主成分とする塗膜形成用組成物を塗布し、硬化処理を行って形成したシリカ質セラミックス層の外面に、光触媒含有層を形成するに際して、光触媒含有層を形成する前に前記シリカ質セラミックス層の表面を90°C以上の高温水に浸漬することを特徴とする被覆物の形成方法。
IPC (5件)：
C23C 18/12 ( 200 6.01)
, B05D 3/10 ( 200 6.01)
, B05D 7/24 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
, C04B 41/82 ( 200 6.01)
C23C 18/12
, B05D 3/10 Z
, B05D 7/24 302 Y
, B32B 9/00 A
, C04B 41/82
