特許

J-GLOBAL ID：201103053931522043

変位測定装置及び方法

発明者： 大森 浩二 ,  永塚 一毅 ,  辻村 映治 ,  田沼 敦郎 ,  高橋 秀昭 ,  田下 貴久
出願人/特許権者： アンリツ株式会社
代理人 (1件)： 西村 教光
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-187826
公開番号（公開出願番号）：特開2000-266512
特許番号：特許第3561439号
出願日： 1999年07月01日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】測定対象面に照射した光により形成される照射点を走査し、受光素子の受光面上に形成された結像点の検出位置に基づき、前記測定対象面の変位量を非接触で測定する変位測定装置において、光軸廻りに均等な結像特性を有する複数の集光レンズが前記照射点の走査方向に沿って構成され、前記照射点からの測定光を収束させる集光レンズアレイと、光軸廻りに均等な結像特性を有し、前記収束された測定光を前記受光面に出射し、該受光面上に結像点を形成させる結像レンズと、前記受光素子から出力された前記結像点の検出位置に対応する検出信号に基づき、前記測定対象面の変位量を演算出力する変位演算手段と、前記集光レンズアレイを通過した測定光の結像位置のばらつきにより発生する変位量の偏差を前記走査方向の複数箇所でそれぞれ検出し、該検出された偏差に基づき、測定対象面の変位量を補正して出力する処理手段と、を備えたことを特徴とする変位測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/00 ,  G01C 3/06

FI (2件)：

G01B 11/00 B ,  G01C 3/06 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 画像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-185247   出願人：京セラ株式会社
• 変位測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-257758   出願人：アンリツ株式会社
• 走査型レーザ変位計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-009622   出願人：日本電気株式会社
• 特開平4-344448
  
• 特開平4-177106