特許
J-GLOBAL ID：201103055950876460
化学的機械的研磨用スラリー
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 岩田 慎一
, 緒方 雅昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-357798
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164310
特許番号：特許第3768402号
出願日： 2000年11月24日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上の凹部を有する絶縁膜上に形成された銅系金属膜を研磨するための化学的機械的研磨用スラリーであって、研磨材、酸化剤および水、並びにベンゾトリアゾール系化合物およびトリアゾール系化合物を含有し、
前記トリアゾール系化合物が、1,2,3-トリアゾール、1,2,4-トリアゾール又はそれらの誘導体であり、
前記ベンゾトリアゾール系化合物に対する前記トリアゾール系化合物の含有量比(質量比率)が1以上100以下である化学的機械的研磨用スラリー。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 200 6.01)
, C09K 3/14 ( 200 6.01)
, H01L 21/306 ( 200 6.01)
H01L 21/304 622 D
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 C
, C09K 3/14 550 Z
, H01L 21/306 M
