特許
J-GLOBAL ID：201103056157759948

基材、中間膜及び微細凹凸構造膜を積層してなる積層体

発明者：
佐藤 一也

佐藤 一也 について

, 
松本 司

松本 司 について


出願人/特許権者：
株式会社DNPファインケミカル

株式会社DNPファインケミカル について


代理人 (1件)： 高橋 徳明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-147631
公開番号（公開出願番号）：特開2011-000856
出願日： 2009年06月22日
公開日（公表日）： 2011年01月06日
要約：
【課題】表面に微細構造を付与することにより低反射率を発現させることができる積層体において、機械特性を向上させた積層体を提供すること。【解決手段】少なくとも、基材、中間膜、微細凹凸構造膜をこの順に積層してなる積層体であって、該微細凹凸構造膜が、中間膜側とは反対側の表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期100nm以上400nm以下で存在する微細凹凸構造を有し、該表面で測定した鉛筆硬度がH以上であることを特徴とする積層体。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、基材、中間膜、微細凹凸構造膜をこの順に積層してなる積層体であって、該微細凹凸構造膜が、中間膜側とは反対側の表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期100nm以上400nm以下で存在する微細凹凸構造を有し、該表面で測定した鉛筆硬度がH以上であることを特徴とする積層体。
IPC (4件)：
B32B 7/02 ,  B32B 27/30 ,  G02F 1/133 ,  G02B 1/11
FI (4件)：
B32B7/02 103 ,  B32B27/30 A ,  G02F1/1335 ,  G02B1/10 A
Fターム (35件)：
2H191FA40X ,  2H191FA40Z ,  2H191FB02 ,  2H191FD07 ,  2K009AA01 ,  2K009BB24 ,  2K009CC24 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  4F100AK25B ,  4F100AK25C ,  4F100AK41B ,  4F100AK41C ,  4F100AK42 ,  4F100AK51B ,  4F100AK51C ,  4F100AK53B ,  4F100AK53C ,  4F100AL05C ,  4F100AL06B ,  4F100AL06C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA30 ,  4F100DD07C ,  4F100EH46 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ42B ,  4F100EJ52B ,  4F100EJ52C ,  4F100GB41 ,  4F100JN06 ,  4F100JN08
引用特許：
審査官引用 (6件)
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