特許
J-GLOBAL ID:200903031111552426
防眩性反射防止フィルムの製造方法及び防眩性反射防止フィルム
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-248647
公開番号(公開出願番号):特開2006-062240
出願日: 2004年08月27日
公開日(公表日): 2006年03月09日
要約:
【課題】反射防止フィルムに孔開きが生じず、且つ高温下、高湿下の経年使用においても、性能が変化しない防眩性反射防止フィルムの製造方法及びフィルム。【解決手段】(A)易エンボス性ハードコート前駆層を基材上に塗設する前駆層塗設工程、(B)該易エンボス性ハードコート前駆層上に直接又は他の層を介して、上記基材と異なる屈折率を有する1層以上の薄層からなる反射防止層を塗設する反射防止層形成工程、(C)エンボス処理して該防眩性反射防止フィルムの表面に凹凸を形成するエンボス処理工程、及び(D)該エンボス処理工程後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させてハードコート層とする硬化工程からなる、鏡面反射率が3%以下、表面鉛筆硬度が2H以上の防眩性反射防止フィルムの製造方法。エンボス処理時の貯蔵弾性率が3MPa〜3,000MPaで、損失弾性率が1MPa〜300MPaである。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)易エンボス性ハードコート前駆層を基材上に塗設する前駆層塗設工程、
(B)該易エンボス性ハードコート前駆層上に直接又は他の層を介して、上記基材と異なる屈折率を有する1層以上の薄層からなる反射防止層を塗設する反射防止層形成工程、
(C)エンボス処理して該反射防止層の表面に凹凸を形成するエンボス処理工程、及び
(D)該エンボス処理工程後に該易エンボス性ハードコート前駆層を硬化させてハードコート層とする硬化工程、
を含有する、鏡面反射率が3%以下であり、JIS K 5400に従う表面の鉛筆硬度が2H以上である防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、上記エンボス処理時の貯蔵弾性率が3MPa〜3,000MPaであり、損失弾性率が1MPa〜300MPaであることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
IPC (3件):
B29C 59/04
, B32B 7/02
, G02B 1/11
FI (3件):
B29C59/04 C
, B32B7/02 103
, G02B1/10 A
Fターム (48件):
2K009AA03
, 2K009AA15
, 2K009CC09
, 2K009CC24
, 2K009CC26
, 2K009DD02
, 2K009DD05
, 2K009DD15
, 2K009EE00
, 4F100AJ04
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100DD01B
, 4F100DD01C
, 4F100EH46B
, 4F100EH46C
, 4F100EJ08B
, 4F100EJ42B
, 4F100EJ53B
, 4F100EJ54B
, 4F100GB41
, 4F100JK07
, 4F100JK12B
, 4F100JM02C
, 4F100JN06C
, 4F100JN30C
, 4F100YY00C
, 4F209AC03
, 4F209AD08
, 4F209AD20
, 4F209AD33
, 4F209AF01
, 4F209AF15
, 4F209AG01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AH78
, 4F209PA03
, 4F209PB02
, 4F209PC05
, 4F209PH02
, 4F209PJ08
, 4F209PQ01
引用特許:
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