特許

J-GLOBAL ID：201103056789140684

高減衰性物体のためのアーティファクト補正

発明者： ジアング・シー
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 荒川 聡志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-127864
公開番号（公開出願番号）：特開2000-000236
特許番号：特許第4384749号
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 計算機式断層撮影システムで収集される画像データにおいて高減衰性物体により生ずるアーティファクトを補正する方法であって、 前記高減衰性物体の各々の高減衰性物質ごとに減衰特性を決定する工程と、 前記画像データにおいて前記高減衰性物体を識別する工程と、 各々の高減衰性物体ごとに誤差のみの画像データを作成する工程とを有しており、 前記各々の高減衰性物体ごとに誤差のみの画像データを作成する前記工程は、 各々の高減衰性物質ごとに別個の成分画像データを作成する工程と、 各々の高減衰性物質ごとの前記別個の成分画像データを前方投影することにより、高減衰性物質ごとの投影データの組を作成する工程と、 該識別された高減衰性物質に基づいて予め定められた減衰特性により前記高減衰性物質ごとの投影データを調節する工程と、 該調節された前記高減衰性物質ごとの投影データを逆投影する工程とを含んでいる前記方法。

IPC (1件)：

A61B 6/03 ( 200 6.01)

FI (2件)：

A61B 6/03 370 E ,  A61B 6/03 360 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• X線CT装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-032734   出願人：株式会社日立メディコ
• もとの像データを強化するシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-285750   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ