特許
J-GLOBAL ID:201103057202807955
ポリッシング装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西脇 民雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-154769
公開番号(公開出願番号):特開2000-343417
特許番号:特許第4416867号
出願日: 1999年06月02日
公開日(公表日): 2000年12月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 旋回基盤上に旋回可能に設けられ、かつ、表面にピッチポリシャが貼着されたターンテーブルと、該ターンテーブルの周囲に設けられて研磨液を保持する研磨液保持容器とを備え、該研磨液保持容器の保持する研磨液の液中に沈めた前記ピッチポリシャの表面で、前記ターンテーブルを旋回させつつ被加工物を研磨加工するポリッシング装置であって、
前記研磨液保持容器は、前記ターンテーブルの周面に取り付けられて該ターンテーブルとともに旋回し、前記研磨液保持容器の下方には該研磨液保持容器から流出する研磨液を回収するための研磨液回収容器が固定されて設けられ、
前記ターンテーブルの周面には、前記ターンテーブルを研磨加工中に冷却して保温する保温液を保持するための保温液保持容器が、前記研磨液保持容器の下方に位置するように設けられていることを特徴とするポリッシング装置。
IPC (2件):
B24B 37/00 ( 200 6.01)
, B24B 57/02 ( 200 6.01)
FI (3件):
B24B 37/00 K
, B24B 37/00 J
, B24B 57/02
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開昭63-114872
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硬質基板の製造方法およびその製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-079323
出願人:コマツ電子金属株式会社
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特開平1-306171
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特開昭61-071965
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審査官引用 (7件)
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特開昭61-071965
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特開昭63-114872
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特開昭63-114872
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硬質基板の製造方法およびその製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-079323
出願人:コマツ電子金属株式会社
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特開平1-306171
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特開平1-306171
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特開昭61-071965
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