特許
J-GLOBAL ID：201103057376278757
金属イオン導入ハイドロタルサイト類化合物の製造方法および金属イオン捕捉方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深井 敏和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184802
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019428
特許番号：特許第4345142号
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一般式(1) :
[M2+1-x M3+x (OH)2 ]x+(An-)x/n ・yH2 O (1)
(式中、M2+は2価の陽イオン、M3+は3価の陽イオン、An-はアミノ酸に由来する陰イオン、縮合リン酸の陰イオン、β-ジケトン類に由来する陰イオンおよびチオ硫酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも1種の陰イオン、0.16≦x≦0.33、n≧1、y>0である。)で表されるハイドロタルサイト類化合物に金属塩を加えて、この金属塩中の金属イオンを前記ハイドロタルサイト類化合物の層間に導入することを特徴とする金属イオン導入ハイドロタルサイト類化合物の製造方法。
IPC (6件)：
C01G 1/00 ( 200 6.01)
, A01N 59/06 ( 200 6.01)
, B01J 20/08 ( 200 6.01)
, C01B 25/38 ( 200 6.01)
, C01F 7/00 ( 200 6.01)
, C08K 9/00 ( 200 6.01)
C01G 1/00 B
, A01N 59/06 Z
, B01J 20/08 B
, C01B 25/38
, C01F 7/00 C
, C08K 9/00
