特許
J-GLOBAL ID：201103057573766682
回折性の光学的ビーム積分によるレーザー伝送システムおよび方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-529773
特許番号：特許第4302885号
出願日： 1999年01月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 経路に沿ってパルスレーザーエネルギーの不均一なビーム(102)を発生させるためのエキシマレーザー(104)であって、該不均一なビームが不均一な空間的強度分布およびほぼ矩形の断面を有する、エキシマレーザー(104)と、
該不均一なビームの該経路に配置された光学的ディフューザー(12)であって、該不均一なビームを、実質的に均一な空間的強度分布および実質的に円形の断面を有する空間的に積分したビームに変換する、光学的ディフューザー(12)と、
収束レンズ(22)であって、回折性の光学的ディフューザー(12)からの該ビームを空間的積分表面上に収束するように配置された、収束レンズ(22)と
を備える、組織切除のためのエキシマレーザーシステムであって、
該回折性の光学的ディフューザー(12)は、該レーザー(104)から間隔を空けて配置されており、該ビームの該経路にわたって配置された回折パターンを有し、ここで、該回折パターンは、該ほぼ矩形の不均一なビームを実質的に円形の空間的に積分したビームに変換するように配置されていることを特徴とする、エキシマレーザーシステム。
IPC (6件)：
G02B 27/09 ( 200 6.01)
, G02B 5/02 ( 200 6.01)
, G02B 5/18 ( 200 6.01)
, G02B 13/00 ( 200 6.01)
, H01S 3/00 ( 200 6.01)
, H01S 3/225 ( 200 6.01)
G02B 27/00 E
, G02B 5/02 B
, G02B 5/18
, G02B 13/00
, H01S 3/00 A
, H01S 3/223 E
