特許
J-GLOBAL ID:201103057625759027

生体組織の処置用のプラズマアークを発生する高周波装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-567145
特許番号:特許第4340011号
出願日: 1999年09月01日
請求項(抜粋):
【請求項1】 内部抵抗(8)を有する高周波発生器(3)を有し、該高周波発生器(3)には可撓性リード(10)によって電極(4)が接続され、該電極(4)を用いて、前記高周波発生器(3)に同様に電気的に接続された生体組織(1)と前記電極(4)との間のプラズマセグメント(6)にプラズマアーク(5)を生成する、医療における前記生体組織(1)の処置用の前記プラズマアーク(5)を発生する高周波装置において、 前記高周波発生器(3)には高周波電圧電源(7)が設けられ、 前記高周波電圧電源(7)には、直列に配列された容量性の作用を有する第1リアクタンス素子(9a)及び誘導性の作用を有する第2リアクタンス素子(9b)から成る共振回路(2)が接続され、 前記共振回路(2)は、前記高周波電圧電源(7)によって発せられる高周波振動の周波数に設定された共振周波数を有し、 前記プラズマアーク(5)を発生するための電圧は、前記第1又は第2リアクタンス素子(9a、9b)から取り出され、 前記第1及び第2リアクタンス(9a、9b)が、共振周波数において同一の大きさを有し、 前記電極(4)が、前記2つのリアクタンス素子の第1のリアクタンス素子(9a)と並列に配置され、 前記リアクタンス(9a、9b)の大きさが、前記プラズマアークが非点弧状態にある場合、共振により、前記プラズマセグメント(6)における前記高周波電圧が前記プラズマアーク(5)の点弧に必要な電圧と少なくとも等しくなり、前記プラズマアーク(5)が点弧状態にある場合、前記プラズマセグメント(6)の導通によって共振が抑制されるよう、前記高周波電圧電源(7)の電圧振幅に応じて定められており、 前記リアクタンスの大きさと内部抵抗(8)の抵抗値との組み合わせが、前記プラズマセグメント(6)における高周波電流強度を決定する ことを特徴とする、プラズマアーク(5)を発生する高周波装置。
IPC (1件):
A61B 18/12 ( 200 6.01)
FI (1件):
A61B 17/39
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 高周波焼灼電源装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-278336   出願人:オリンパス光学工業株式会社
  • アークを用いる電気外科装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-264648   出願人:バーッチヤーメディカルシステムズ,インコーポレイテッド

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