積層型ガスセンサ素子の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島清路
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-264228
公開番号（公開出願番号）：特開2002-071629
特許番号：特許第4588853号
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも基体用原料粉末及び基体用バインダを混練し、次いで成形して得た基体用未焼成体と、少なくとも多孔質体用原料粉末及び多孔質体用バインダを混練し、次いで成形して得た多孔質体用未焼成体とを、固体電解質体用未焼成体を挟んで対向するように積層して未焼成積層体を形成し、次いで、該未焼成積層体を一体に焼成する積層型ガスセンサ素子の製造方法であって、上記基体用未焼成体の単位質量あたりに含有される上記基体用原料粉末の表面積を上記基体用バインダの質量により除した値をA1(m2/g)とし、一方、上記多孔質体用未焼成体の単位質量あたりに含有される上記多孔質体用原料粉末の表面積を上記多孔質体用バインダの質量により除した値をA2(m2/g)とした場合であって、上記基体用原料粉末の平均粒径と上記多孔質体用原料粉末の平均粒径とを同一としたうえで、下記式〔1〕で表される値Xを±0.1以内に調整することを特徴とする積層型ガスセンサ素子の製造方法。 X=(A1-A2)/A1 〔1〕

IPC (2件)：

G01N 27/409 ( 200 6.01) , G01N 27/416 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G01N 27/58 B , G01N 27/46 371 G

引用特許：

出願人引用 (6件)

セラミツク皮膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-309293 出願人：日本電装株式会社
セラミック積層体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-188434 出願人：株式会社デンソー
特開昭63-290952

全件表示

審査官引用 (10件)

特開平2-276956
特開昭60-228955
特開昭55-078245

全件表示

前のページに戻る