特許

J-GLOBAL ID：201103057796067271

基板処理装置

発明者： 前田 徳雄 ,  鷲見 孝治 ,  喜 冠南 ,  大野 正雄 ,  佐藤 義和 ,  松本 隆夫
出願人/特許権者： 東邦化成株式会社 ,  ダイキン工業株式会社
代理人 (1件)： 津川 友士
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-321105
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196343
特許番号：特許第3960457号
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】所定形状のオーバーフロー処理槽(1)と、オーバーフロー処理槽内に複数枚の処理対象基板(5)を互いに平行に支持する基板支持部と、オーバーフロー処理槽内に処理用流体を供給する流体供給部(2)とを含む基板処理装置であって、 前記流体供給部(2)は、オーバーフロー処理槽(1)の底部近傍において、処理対象基板(5)の中心と正対し、かつ処理対象基板(5)の並び方向に延びるように配置されるとともに、下向きに処理用流体を吐出する処理用流体吐出口を有する長尺の第1管体(2)であり、前記オーバーフロー処理槽(1)の底部は、長尺の第1管体(2)の処理用流体吐出口を含む所定範囲を包囲すべく外方に突出する突出空間(1a)を有し、この突出空間(1a)は、処理槽内部側が狭幅に設定されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B08B 3/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/306 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/304 642 F ,  H01L 21/304 642 A ,  B08B 3/02 A ,  H01L 21/306 J

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平1-057624
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-328876   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (2件)

• 特開平1-057624
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-328876   出願人：大日本スクリーン製造株式会社