特許
J-GLOBAL ID:201103057924908721
光配向層の製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-292128
公開番号(公開出願番号):特開2002-098969
特許番号:特許第4626039号
出願日: 2000年09月26日
公開日(公表日): 2002年04月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】搬送される連続フィルム支持体上に光配向性材料を含有する塗布液を塗布した後、該塗布層に偏光紫外線を照射する工程を有する光配向層の製造方法において、該支持体上の該偏光紫外線の照射面積内で該支持体の搬送方向または幅手方向における、該支持体の搬送時の振幅が10mm以内であることを特徴とする光配向層の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/1337 ( 200 6.01)
, C08J 7/00 ( 200 6.01)
, C08L 101/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
G02F 1/133 520
, C08J 7/00 CER Z
, C08J 7/00 304
, C08L 101:00
引用特許:
前のページに戻る