特許

J-GLOBAL ID：201103058420984350

有機絶縁膜材料および有機絶縁膜

発明者： 山地 貴志 ,  榎 尚史
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-106988
公開番号（公開出願番号）：特開2001-291712
特許番号：特許第3681106号
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ポリベンゾオキサゾール前駆体のカルボン酸末端と水酸基を有するオリゴマーとにより合成されたことを特徴とする有機絶縁膜材料において、前記ポリベンゾオキサゾール前駆体が、ビスアミノフェノール化合物とジカルボン酸とにより合成された一般式(1)で表される構造を有することを特徴とする有機絶縁膜材料。;;化1::(但し、一般式(1)中のnは2〜1000までの整数を示す。Xは4価及びYは2価の有機基を表す。)

IPC (5件)：

H01L 21/312 ,  C08G 73/22 ,  H01B 3/30 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/46

FI (5件)：

H01L 21/312 A ,  C08G 73/22 ,  H01B 3/30 H ,  H05K 3/28 C ,  H05K 3/46 T

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 低誘電率重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-018243   出願人：東レ株式会社
• 半導体用有機絶縁膜材料及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-371775   出願人：住友ベークライト株式会社