特許
J-GLOBAL ID:201103059244603759

リフロー炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 松山 圭佑 ,  高矢 諭 ,  牧野 剛博
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-020220
公開番号(公開出願番号):特開2001-210947
特許番号:特許第4383619号
出願日: 2000年01月28日
公開日(公表日): 2001年08月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】加熱室と、この加熱室を直線上に貫通し、基板をその幅方向両端の下方から支持し、水平のパスラインに沿って搬送する搬送手段と、前記加熱室内で前記パスラインの上下の少なくとも一方に配置される加熱手段と、を有して構成され、基板表面に予め塗着されたはんだを溶融させてはんだ付けを行うリフロー炉において、前記搬送方向を長手方向とし、少なくとも前記加熱室の前記搬送手段入口近傍から出口近傍まで、前記パスラインの下方に、略同一高さ、且つ、適宜な幅方向の間隔で配置される複数の線状材を有してなり、これら線状材により、前記搬送手段からの落下基板を捕獲可能である捕獲手段と、前記搬送手段に載置、且つ、前記パスラインに沿って搬送可能で、該載置状態で前記パスラインから下端が下方に突出し、その突出下端により前記線状材上の落下基板を掃い出し可能である回収器と、を備えることを特徴とするリフロー炉。
IPC (2件):
H05K 3/34 ( 200 6.01) ,  B23K 1/008 ( 200 6.01)
FI (3件):
H05K 3/34 507 L ,  H05K 3/34 507 H ,  B23K 1/008 E
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

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