特許
J-GLOBAL ID：201103059485906124
ヘキサヒドロチエノ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
久保山 隆
, 中山 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-251414
公開番号（公開出願番号）：特開2000-351780
特許番号：特許第3846120号
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】一般式(1)
(式中、R1およびR2はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよいアリール基または置換されていてもよいアラルキル基を表わす。)
で示されるヘキサヒドロフロ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類と、チオアミド類を、式(1)で示されるヘキサヒドロフロ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類に対して0.1モル倍以上2モル倍以下の水硫化アルカリ、硫黄および塩基性物質の存在下に、反応させることを特徴とする一般式(2)
(式中、R1およびR2は、それぞれ前記と同じ意味を表わす。)
で示されるヘキサヒドロチエノ[3,4-d]イミダゾール-2,4-ジオン類の製造方法。
IPC (2件)：
C07D 495/04 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07D 495/04 103
, C07B 61/00 300
