特許
J-GLOBAL ID:201103059818790579

疎水化コロイダルシリカの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡邉 一平 ,  樋口 武
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-024767
公開番号(公開出願番号):特開2001-213617
特許番号:特許第4631119号
出願日: 2000年01月28日
公開日(公表日): 2001年08月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 親水性有機溶媒を主溶媒とするコロイダルシリカに、分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有する疎水化剤を混合して、親水性有機溶媒を主溶媒とする第1の疎水化コロイダルシリカを調製し、 この第1の疎水化コロイダルシリカを限外濾過膜を用いて溶媒置換して、疎水性有機溶媒であるケトン類及び/又はエステル類を主溶媒とする第2の疎水化コロイダルシリカを調製することを特徴とする疎水化コロイダルシリカの製造方法。
IPC (1件):
C01B 33/149 ( 200 6.01)
FI (1件):
C01B 33/149
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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