特許
J-GLOBAL ID：201103060191800580

低級アルケンの製造方法

発明者：
三村 直樹

三村 直樹 について

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高原 功

高原 功 について

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稲葉 仁

稲葉 仁 について

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村田 和久

村田 和久 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-202750
公開番号（公開出願番号）：特開2003-012570
特許番号：特許第3918048号
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 低級アルカンを触媒の存在下で脱水素させて低級アルケンを製造する方法において、触媒としてクロム酸化物を、触媒担体としてZSM-5ゼオライトを用いかつ二酸化炭素含有ガスの存在下で反応を行うことを特徴とする低級アルケンの製造方法。
IPC (3件)：
C07C 5/333 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01) ,  C07C 11/02 ( 200 6.01)
FI (3件)：
C07C 5/333 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 11/02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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