特許
J-GLOBAL ID：201103061093146029
ウェハ支持部材
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-293034
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100856
特許番号：特許第4698097号
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】板状セラミック体の上面をウェハを載せる載置面とし、上記板状セラミック体中の下面側近傍に静電吸着用電極を埋設したウェハステージと、上記板状セラミック体の下面側に配置される導電性プレートと、上記ウェハステージを導電性プレートより切り離すリフト機構とを有し、上記板状セラミック体の下面及び/又は上記導電性プレートの上面にはガス溝を備えるとともに、上記導電性プレートには上記ガス溝と連通するガス導入孔を備え、上記ウェハステージの載置面に載せたウェハを加熱する時には、上記リフト機構によってウェハステージを導電性プレートより切り離し、かつ上記ウェハステージの載置面に載せたウェハを冷却する時には、上記リフト機構によってウェハステージを導電性プレートに当接させた状態で上記静電吸着用電極に通電して導電性プレートとの間に静電吸着力を発現させ、上記ウェハステージと上記導電性プレートとを強制的に吸着固定させるとともに、上記ガス導入孔よりガス溝に不活性ガスを供給するようにしたことを特徴とするウェハ支持部材。
IPC (2件)：
H01L 21/683 ( 200 6.01)
, C23C 16/458 ( 200 6.01)
H01L 21/68 R
, C23C 16/458
