特許
J-GLOBAL ID:201103062299060682

少なくとも1つの被処理物を熱処理するための装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-531148
特許番号:特許第4488155号
出願日: 2000年10月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 少なくとも1つのプロセスガス(4)の所定のプロセスガス雰囲気(111)のもとで少なくとも1つの被処理物(3)を熱処理ユニット(6)を用いて熱処理するための装置であって、被処理物(3)により吸収されるエネルギ量のための少なくとも1つのエネルギ源(5)と、 熱処理の間、被処理物(3)をプロセスガス雰囲気(111)のもとに保有する熱処理空間(16)を備えた熱処理容器(11)と、 内部に前記熱処理容器(11)が配置された熱処理室(13)と、 を有し、 前記熱処理容器(11)が前記熱処理室(13)の室壁に対し間隔(18)をおいて配置され、前記熱処理容器(11)と前記熱処理室(13)の室壁との間に中間室(14)が存在しており、該中間室(14)内に、前記プロセスガス雰囲気(111)とは異なる別のガス雰囲気(141)を別のガスから形成するために前記熱処理室(13)内に配置された手段(19)と、前記熱処理空間(16)を囲むクッション空間(15)を生ぜしめるために配置された囲い(12)とが設けられており、前記熱処理空間(16)と前記クッション空間(15)とが前記熱処理容器(11)のギャップ(8)によって互いに接続され、前記クッション空間(15)と前記中間室(14)とが前記囲い(12)のギャップ(9)によって互いに接続され、前記熱処理空間(16)と前記中間室(14)との間に圧力勾配を設定できるようになっており、圧力勾配を形成するために、前記中間室(14)のガス圧が前記熱処理空間(16)のガス圧よりも僅かに大きく、前記クッション空間(15)のガス圧が前記熱処理空間(16)のガス圧よりも小さくかつ前記中間室(14)のガス圧よりも小さくなるように前記熱処理空間(16)と前記クッション空間(15)と前記中間室(14)との圧力を選択することを特徴とする、少なくとも1つの被処理物を熱処理する装置。
IPC (3件):
F27D 7/06 ( 200 6.01) ,  F27B 17/00 ( 200 6.01) ,  H01L 31/04 ( 200 6.01)
FI (3件):
F27D 7/06 B ,  F27B 17/00 B ,  H01L 31/04 E
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平1-285787
  • 太陽電池の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-260129   出願人:松下電器産業株式会社
  • 特開平1-285787
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