加熱調理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：芝野正雅
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-000081
公開番号（公開出願番号）：特開2001-193938
特許番号：特許第3679669号
出願日： 2000年01月04日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】本体枠の内部に設けられ、食品を収容すると共に、中央に複数の排気孔と下部に複数の吸気孔とを形成した後面を有する加熱室と、食品を載置するために前記加熱室底部に備えられ、周囲をシリコン等のシール用材によりシールされると共に、誘電損失の少ない材料から構成される底板と、マイクロ波を発振するマグネトロンと、一端を前記マグネトロンと接続し、他端を前記加熱室の下方の前記本体枠の底面に接続された導波管と、前記加熱室下方に備えられ、前記導波管を介してきた前記マグネトロンのマイクロ波を拡散し、前記底板を介して前記加熱室内に供給する回転アンテナと、前記加熱室の上方に線状のヒータを平面上に這わせて取付けられ、主に前記加熱室の上部を加熱する第1のヒータと、ケース部材と該ケース部材内に収納し、らせん状に巻かれた発熱体とからなる管ヒータで構成され、前記底板周囲のシール用材が硬化するのを回避できる出力に抑えられた主に前記加熱室の下部を加熱する第2のヒータと、該第2のヒータで加熱した空気を前記加熱室内に送るファンと、前記加熱室の後方に取付けられ、前記第2のヒータと前記第2のヒータの上方に備えた前記ファンとを収納したヒータユニットとを備え、前記ヒータユニットは、前記ファンを回転することで前記第2のヒータで加熱された空気を前記加熱室後面の吸気孔から前記加熱室内の下部に送り、主に前記加熱室内部の下部を加熱することを特徴とする加熱調理装置。

IPC (2件)：

F24C 7/02 , H05B 11/00

FI (3件)：

F24C 7/02 531 F , F24C 7/02 531 B , H05B 11/00 G

引用特許：

審査官引用 (13件)

高周波加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-260798 出願人：松下電器産業株式会社
加熱調理器
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-262188 出願人：松下電器産業株式会社
特開昭53-101741

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