特許
J-GLOBAL ID:201103062526431218

光学式ガス分析装置、ガス分析方法及び分析装置制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 酒井 宏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-295984
公開番号(公開出願番号):特開2011-137645
出願日: 2009年12月25日
公開日(公表日): 2011年07月14日
要約:
【課題】より高い精度でガスを分析することができる光学式ガス分析装置を提供することにある。【解決手段】測定対象のガスが流れる計測セルと、レーザ光を射出する発光部と、発光部から射出されたレーザ光を計測セルに案内する光学系と、光学系から入射され、計測セルを通過したレーザ光を受光する受光部と、受光部で取得した情報に基づいて、計測セルを流れるガスを分析する分析部と、光学系の温度を調整する温度調整手段と、を有することで上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
測定対象のガスが流れる計測セルと、 レーザ光を射出する発光部と、 前記発光部から射出されたレーザ光を前記計測セルに案内する光学系と、 前記光学系から入射され、前記計測セルを通過したレーザ光を受光する受光部と、 前記受光部で取得した情報に基づいて、前記計測セルを流れるガスを分析する分析部と、 前記光学系の温度を調整する温度調整手段と、を有することを特徴とする光学式ガス分析装置。
IPC (1件):
G01N 21/35
FI (1件):
G01N21/35 Z
Fターム (22件):
2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC04 ,  2G059CC05 ,  2G059EE01 ,  2G059EE11 ,  2G059FF09 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ25 ,  2G059KK01 ,  2G059KK03 ,  2G059KK09 ,  2G059MM01 ,  2G059NN02 ,  2G059NN06 ,  2G059NN08
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • ガス濃度計測装置及び燃焼炉
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-245257   出願人:三菱重工業株式会社
  • 特開昭52-100276
  • 粒子測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-409214   出願人:シスメックス株式会社
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