特許
J-GLOBAL ID：201103062581999320
研磨剤及び基板の研磨方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231414
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057350
特許番号：特許第3496586号
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 砥粒、研磨速度に研磨圧力依存性の変曲点を与える添加剤を含む研磨剤であって、該研磨剤は変曲点となる圧力より大きい研磨圧力では変曲点以下の研磨圧力の研磨速度よりも大きい研磨速度を有しており、設定研磨圧力がPの場合、パターンの形成された基板の凹部の実効研磨圧力をP1、凸部の実効研磨圧力をP2とすると、パターンのない基板の研磨速度に変曲点が現れる圧力P’がP2>P’>P>P1となるように添加剤の濃度を調整した研磨剤。
IPC (2件)：
H01L 21/304 622
, B24B 37/00
H01L 21/304 622 D
, H01L 21/304 622 K
, B24B 37/00 B
