特許
J-GLOBAL ID:201103062651344521

画像処理装置、制御方法及び光干渉断層撮影システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-002089
公開番号(公開出願番号):特開2011-200635
出願日: 2011年01月07日
公開日(公表日): 2011年10月13日
要約:
【課題】 光干渉断層撮像装置による撮影において、被検者の負担を軽減しつつ、加算平均により得られる合成後の断層画像の画質を向上させる。【解決手段】 生成部104は、画像取得部103にて撮影された断層画像と、既に生成部104にて生成された合成画像を元データとして、これら画像を位置合わせし、画素毎に加算平均して合成された新たな断層画像を生成する。算出部105は、撮影された断層画像や生成部104にて生成された合成画像を解析して、その画質を示す値を算出する。判定部106は、画像取得部103が取得した断層画像または生成部104が生成した断層画像の画質を示す値が所定範囲に含まれるか否かを判定する。指示部107は、判定部106の判定の結果画質が基準に満たないと判定された場合に、その断層画像が示す撮影対象の部位と同一の部位を撮影する旨の指示情報をOCT装置101に対して送信する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光干渉断層撮像装置により撮像された撮像対象の所定の位置に対応する断層画像の画質が所定範囲内か否かを判定する判定手段と、 前記判定手段により前記所定範囲内でないと判定されたことに応じて前記光干渉断層撮像装置に対し前記所定の位置の撮像の許否を制御する制御手段と、 前記制御に応じて得られた断層画像を含む前記所定の位置の複数の断層画像を合成し新たな断層画像を生成する生成手段と、 を有することを特徴とする画像処理装置。
IPC (2件):
A61B 3/12 ,  G01N 21/17
FI (2件):
A61B3/12 E ,  G01N21/17 630
Fターム (15件):
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE17 ,  2G059FF02 ,  2G059GG02 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 放射線診断装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-320716   出願人:株式会社東芝, 東芝メディカルエンジニアリング株式会社
  • 特表平6-511312
  • 光断層画像撮像装置および光断層画像の撮像方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-130392   出願人:キヤノン株式会社
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