特許
J-GLOBAL ID：201103062665991996
パルスレーザーアブレーションによるβシート型シルクフィブロイン薄膜の作成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮本 晴視
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-023875
公開番号（公開出願番号）：特開2001-220663
特許番号：特許第4375867号
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】10-1〜10-3mmHgの真空中において、紫外〜可視光の領域の適当なパルス幅のレーザーを用いる場合には光増感剤を最大0.1重量%までドープしたβシート型フィブロインのターゲットを、また、近赤外領域の適当なパルス幅のレーザーを用いる場合にはこの波長のレーザーを吸収する最大0.1重量%までドープしても良いβシート型シルクフィブロインのターゲットを用い、前記ターゲットに適当な間隔を置いて配置された基体表面に、前記パルスレーザーの照射によって前記ターゲットから発生したβシート型フィブロインのアブレーション噴出物を堆積させることを特徴とする、前記パルスレーザーアブレーションのみによって前記基体表面にβシート型シルクフィブロイン薄膜を作成する方法。
IPC (2件)：
C23C 14/28 ( 200 6.01)
, C08J 7/04 ( 200 6.01)
