特許
J-GLOBAL ID:201103063603493473
改善された反射防止用被覆
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (4件):
恩田 博宣
, 恩田 誠
, 本田 淳
, 池上 美穂
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-533316
公開番号(公開出願番号):特表2011-505267
出願日: 2008年11月10日
公開日(公表日): 2011年02月24日
要約:
改善された反射防止用被覆のための方法及び装置が提供される。ロール・ツー・ロール製造環境における、透明導電電極の非真空蒸着が開示される。本発明の1実施形態においては、実質的に透明な基板の表面上に形成された多層反射防止用被覆を含む装置が提供され、該多層反射防止用被覆は複数のナノ構造の層を含み、その複数のナノ構造の層のそれぞれは調整された多孔率を有し、また少なくともいくつかのナノ構造の層は、その複数の層により異なる屈折率を発生させるため、異なる多孔率を有する。いくつかの実施形態では、この反射防止用層と共に用いられる吸収体層は、IB-IIIA-VIA族の吸収体層である。
請求項(抜粋):
実質的に透明な基板の表面上に形成された多層反射防止用被覆を含む装置であって、
前記多層反射防止用被覆は複数のナノ構造の層を含み、前記複数の層に異なる屈折率を生成するために、前記複数のナノ構造の層の各層は調整された多孔率を有し、及び少なくともいくつかのナノ構造の層は、異なる多孔率を有することを特徴とする装置。
IPC (6件):
B32B 7/02
, G02B 1/11
, G02B 5/22
, H01L 31/04
, H01L 31/042
, B32B 5/18
FI (6件):
B32B7/02 103
, G02B1/10 A
, G02B5/22
, H01L31/04 F
, H01L31/04 R
, B32B5/18
Fターム (64件):
2H048CA13
, 2K009AA01
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009CC09
, 2K009DD02
, 2K009DD03
, 2K009DD06
, 2K009EE02
, 4F100AA17B
, 4F100AA17C
, 4F100AA18B
, 4F100AA18C
, 4F100AA19B
, 4F100AA19C
, 4F100AA20B
, 4F100AA20C
, 4F100AA21B
, 4F100AA21C
, 4F100AA25B
, 4F100AA25C
, 4F100AA27B
, 4F100AA27C
, 4F100AA28B
, 4F100AA28C
, 4F100AA33B
, 4F100AA33C
, 4F100AG00A
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK01C
, 4F100AK17D
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100CA13B
, 4F100CA13C
, 4F100DH00A
, 4F100DJ10B
, 4F100DJ10C
, 4F100EH46B
, 4F100EH46C
, 4F100GB41
, 4F100JD09D
, 4F100JD14D
, 4F100JK01A
, 4F100JK13A
, 4F100JK17A
, 4F100JN01A
, 4F100JN06B
, 4F100JN06C
, 4F100JN18B
, 4F100JN18C
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 5F151AA10
, 5F151BA11
, 5F151HA03
, 5F151JA03
引用特許:
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