化学反応装置及び化学反応方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：石田敬 , 吉田維夫 , 鶴田準一 , 西山雅也 , 樋口外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-214772
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028500
特許番号：特許第4555947号
出願日： 2000年07月14日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】反応ガス及び触媒又は触媒前駆物質の入口と、反応生成物及び使用済み触媒の出口とを有するハウジングを含み、プラズマ発生用の電極の一方がハウジング内壁と所定の間隔をあけてハウジング内部に設けられているプラズマ処理部を備えてなる化学反応装置であって、反応ガス及び触媒又は触媒前駆物質の入口に近い側に、反応ガス及び触媒又は触媒前駆物質を加熱する加熱部を含み、そしてこの加熱部の下流側にプラズマ処理部を有することを特徴とする化学反応装置。

IPC (2件)：