特許
J-GLOBAL ID：201103064083213401
光半導体装置及びその製造方法並びに光通信用モジュール,光通信システム
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-172163
公開番号（公開出願番号）：特開2002-368331
特許番号：特許第3636311号
出願日： 2001年06月07日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】半導体基板上に形成された回折格子と、前記回折格子表面に形成された前記半導体基板の組成と所定の添加物の組成とから成る圧縮歪を有する変成層と、前記変成層上に回折格子を埋め込むように形成された伸張歪を有するガイド層と、前記ガイド層上の圧縮歪を有する量子井戸活性層と、前記活性層上のクラッド層とを有することを特徴とする光半導体装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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