特許
J-GLOBAL ID：201103064403027296

スルホニル化合物の製造方法

発明者：
石橋 良晃

石橋 良晃 について

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藤井 亮一

藤井 亮一 について

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小田 茂

小田 茂 について

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川端 英二

川端 英二 について

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高口 昌之

高口 昌之 について

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森 高章

森 高章 について


出願人/特許権者：
ハリマ化成株式会社

ハリマ化成株式会社 について

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三光株式会社

三光株式会社 について


代理人 (2件)： 永井 道雄 ,  山下 穣平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-244681
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053544
特許番号：特許第4508377号
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(2) (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表す) で示されるフェノール化合物と、一般式(3) (式中、Yはハロゲン原子を表し、R1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表す) で示されるスルホニルハライド化合物とを、一般式(4) (式中、R4は低級アルキル基又はR4同士が環を形成したテトラメチレン基を表す) で示されるスルホニル化合物を溶媒としてルイス酸系触媒の存在下に反応させて得られる縮合反応混合物に、低級アルコールを添加して目的化合物を析出せしめることを特徴とする、一般式(1) (式中、Xは水素原子又は低級アルキル基を表し、R1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はシクロアルキル基を表す) で示されるスルホニル化合物の製造方法。
IPC (4件)：
C07C 315/00 ( 200 6.01) ,  C07C 315/06 ( 200 6.01) ,  C07C 317/22 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (4件)：
C07C 315/00 ,  C07C 315/06 ,  C07C 317/22 ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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