特許
J-GLOBAL ID:201103064416131980

微細パターンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  内藤 浩樹 ,  永野 大介
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-018367
公開番号(公開出願番号):特開2000-214753
特許番号:特許第4232253号
出願日: 1999年01月27日
公開日(公表日): 2000年08月04日
請求項(抜粋):
【請求項1】光源からの光をビームスプリッタまたはプリズムにより2つの光束に分岐し、これら2つの光束を感光性材料内で干渉させることにより前記感光性材料に周期的な微細パターンを形成する製造装置であって、前記2つの光束のうち少なくとも一つの光束を前記感光性材料に照射する光路中に光束の光量調整手段を備え、 前記光量調整手段は、 前記2つの光束の単位面積当たりの光強度をそれぞれI1、I2、媒質表面での前記2つの光束に対する電界振幅透過係数をそれぞれt1、t2とした場合の媒質内部での前記2つの光束の干渉縞のビジビリティの値V が、V≧0.8となるように、前記感光性材料に対する前記光束の入射角に応じて動的に光量を可変することで、前記2つの光束の光量比を調整することを特徴とする微細パターンの製造装置。
IPC (1件):
G03H 1/26 ( 200 6.01)
FI (1件):
G03H 1/26
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (11件)
  • ホログラム記録用二次元符号化方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-009181   出願人:日本電信電話株式会社
  • 特開平3-289692
  • 特開平3-289692
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