特許
J-GLOBAL ID:201103064600693621

チオール化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 酒井 一 ,  蔵合 正博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-255442
公開番号(公開出願番号):特開2011-126873
出願日: 2010年11月16日
公開日(公表日): 2011年06月30日
要約:
【課題】原料として、ヒドロキシ化合物および硫化水素を用い、高収率でチオール化合物を得ることが可能な製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の製造方法は、ジルコニアを含む複合金属酸化物、酸担持ジルコニア、又はメソポーラスな細孔を有するシリカ・チタニアから選択される金属酸化物触媒の存在下、ヒドロキシ化合物と硫化水素とを、気相加熱下で反応させることを特徴とし、特に、チオフェノール等の芳香族チオール化合物の製造に有用である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ジルコニアを含む複合金属酸化物、酸担持ジルコニア、又はメソポーラスな細孔を有するシリカ・チタニアから選択される金属酸化物触媒の存在下、ヒドロキシ化合物と硫化水素とを、気相加熱下で反応させることを特徴とするチオール化合物の製造方法。
IPC (4件):
C07C 319/08 ,  C07C 319/10 ,  C07C 321/04 ,  C07C 321/26
FI (4件):
C07C319/08 ,  C07C319/10 ,  C07C321/04 ,  C07C321/26
Fターム (14件):
4H006AA02 ,  4H006AC63 ,  4H006BA10 ,  4H006BA14 ,  4H006BA30 ,  4H006BA33 ,  4H006BA36 ,  4H006BC10 ,  4H006BC13 ,  4H006BC19 ,  4H006TA04 ,  4H039CA60 ,  4H039CD10 ,  4H039CD30
引用特許:
審査官引用 (6件)
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