特許
J-GLOBAL ID：201103064820642726
容器洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人岡田国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-527372
特許番号：特許第4447165号
出願日： 1999年01月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】半導体ウェハーキャリヤを清浄化するための装置であって、
a.第1の開口と第2の開口とを有し、ウエハーキャリヤを前記第1の開口のまわりにシール接触した状態で支持するように構成されたベース部分と、
b.第1の流体回路と、
c.第2の流体回路と、
を有し、前記第1の流体回路は流体を前記第1の開口とウェハーキャリヤの内面との間で循環して流し、前記第2の流体回路は流体を前記第2の開口とウェハーキャリヤの外面との間で循環して流して、ウェハーキャリヤの内面及び外面から汚染を除去するとともに、前記第1及び第2の流体回路で流れる流体が廃棄される前において前記第2の流体回路からの流体は前記第1の流体回路に供給されないように構成された装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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